PROBLEMAS RESUELTOS
DE FÍSICA
custiones resueltas de semiconductores - electrónica física

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Problemas de física de semiconductores

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Ejercicios resueltos

Cuestiones de física electrónica

Explicar cómo se forma una capa de SiO2 en la superficie de una oblea de Si.

Respuesta del ejemplo 58

El proceso de deposición de una capa de SiO2 sobre la superficie de la oblea de silicio se lleva a efecto para provocar la pasivación superficial de la oblea y habitualmente se realiza por oxidación térmica del Si mediante la exposición de la capa epitaxial a una atmósfera de oxígeno y calentándola a 1000 ºC.
Además del método considerado, otros tipos de pasivación empleados en casos muy concretos y fuera de la producción de circuitos integrados: Oxidación anódica y descomposición de SiO2 por pulverización catódica.

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Página publicada por: José Antonio Hervás